泰晶科技获得实用新型专利授权：“一种具有多曝光角度的晶片固定座”

证券之星消息，根据企查查数据显示泰晶科技（603738）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种具有多曝光角度的晶片固定座”，专利申请号为CN202323163033.1，授权日为2024年7月2日。

专利摘要：本实用新型提供了一种具有多曝光角度的晶片固定座，包括基座、晶片定位框和掩膜板定位机构，其中，基座具有一个侧面a和多个侧面b，所述侧面a与所述侧面b的夹角均小于90°；晶片定位框活动设置在所述侧面a上，所述晶片定位框具有一形状与晶片形状相匹配的定位孔；掩膜板定位机构用于将掩膜板和所述晶片定位框依次压紧在所述侧面a上。所述基座具有一个侧面a和多个侧面b，当切换不同的所述侧面b作为所述基座的支撑面时，可调整所述侧面a的倾角，从而能够在不改变光路系统的前提下调整晶片和掩膜板的曝光角度，并确保光路系统的稳定性和精确度；同时，不同侧面b对应了不同的曝光角度，使用灵活性较高，提高了光学加工的效率和多功能性。

今年以来泰晶科技新获得专利授权13个。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了3659.06万元，同比减27.64%。

数据来源：企查查

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