证券之星消息，根据企查查数据显示捷佳伟创（300724）新获得一项发明专利授权，专利名为“用于检测硅片位置的检测装置、硅片处理系统及检测方法”，专利申请号为CN201810799161.X，授权日为2024年6月28日。
专利摘要：本发明公开了一种用于检测硅片位置的检测装置、硅片处理系统及检测方法。其中检测装置包括摄像模组，与所述摄像模组相适配的光源，驱动所述摄像模组及光源沿正交两个方向运动的驱动机构，所述驱动机构将摄像模组移动至各检测点，所述摄像模组采集各检测点的图像并对图像进行处理分析得出是否有漏片或者硅片位置是否正常。本发明检测精度高，可以节省大量的人力及精力。
今年以来捷佳伟创新获得专利授权35个，较去年同期增加了84.21%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了4.67亿元，同比增63.46%。
数据来源：企查查
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