四方光电获得发明专利授权：“一种抗漂移的双气敏膜气体传感器”

证券之星消息，根据企查查数据显示四方光电（688665）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种抗漂移的双气敏膜气体传感器”，专利申请号为CN202111494409.X，授权日为2024年6月28日。

专利摘要：本发明提供了一种抗漂移的双气敏膜气体传感器，属于气敏传感器技术领域，包括基底、加热电极及多个气敏单元，所述加热电极及多个所述气敏单元间隔设置在所述基底上，所述气敏单元包括构成至少两个插齿电极的至少三个测量电极和至少两个气敏膜，所述至少三个测量电极间隔设置在所述基底上，至少两个所述气敏膜分别由纯金属氧化物和与改性材料制作而成，至少两个所述气敏膜分别覆盖在所述至少两个插齿电极上。与现有技术相比，本发明提供的抗漂移的双气敏膜气体传感器，结构简单，适用性较好，提高了气体传感器的敏感性和稳定性。

今年以来四方光电新获得专利授权15个，较去年同期增加了66.67%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了8224.14万元，同比增46.07%。

数据来源：企查查

以上内容由证券之星根据公开信息整理，由算法生成（网信算备310104345710301240019号），与本站立场无关，如数据存在问题请联系我们。本文为数据整理，不对您构成任何投资建议，投资有风险，请谨慎决策。