四方光电获得实用新型专利授权：“气体吸收池、激光气体传感器及室外气体泄露监测装置”

证券之星消息，根据企查查数据显示四方光电（688665）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“气体吸收池、激光气体传感器及室外气体泄露监测装置”，专利申请号为CN202323055291.8，授权日为2024年6月28日。

专利摘要：本实用新型公开一种气体吸收池、激光气体传感器及室外气体泄露监测装置，气体吸收池包括一主反射镜、两次反射镜、光输入端和光输出端，主反射镜、两个次反射镜、光输入端和光输出端组成怀特池，气体吸收池还包括至少一光程倍增镜组，光程倍增镜组包括呈角度可调设置的第一平面反射镜和第二平面反射镜，设于主反射镜和次反射镜之间，用于将次反射镜的出射光再次反射回至怀特池中，以实现光程的倍增；如此，通过在怀特池内增设光程倍增镜组，使得光输入端射向次反射镜的光束，在经过次反射镜反射至主反射镜之前，还需经过光程倍增镜组进行多次反射，形成多次折返光路，实现光程至少一倍的增加，提升光衰减信号强度，适用于高精度测量低浓度气体。

今年以来四方光电新获得专利授权14个，较去年同期增加了55.56%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了8224.14万元，同比增46.07%。

数据来源：企查查

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