大立科技获得实用新型专利授权：“一种超大面阵大光圈红外双视场光学系统”

证券之星消息，根据企查查数据显示大立科技（002214）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种超大面阵大光圈红外双视场光学系统”，专利申请号为CN202322344825.2，授权日为2024年6月11日。

专利摘要：本实用新型涉及一种超大面阵大光圈红外双视场光学系统，属于红外成像技术领域，解决了现有技术中通过增大光圈以及提高探测器像素数，增加光学设计难度，且无法平衡冷反射，使图像不均匀，严重影响对目标的探测和识别的问题。该系统包括从物方至像方依次同轴设置的开普勒望远系统前固定组、切场组、开普勒望远系统后固定组和二次成像系统；通过切场组的切入切出实现大、小视场的切换；光束经过开普勒望远系统输出平行光，二次成像系统接收开普勒望远系统后固定组输出的平行光，并将平行光聚焦到探测器上。实现了光学系统冷反射强度的良好平衡，使焦平面阵列规模达到1280*1204/15um，光圈为2.0；有大小两个视场的快速切换，且适用于像移补偿。

今年以来大立科技新获得专利授权9个，与去年同期持平。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了1.98亿元，同比增4.29%。

数据来源：企查查

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