聚光科技获得发明专利授权：“一种二维谱图对齐方法及系统”

证券之星消息，根据企查查数据显示聚光科技（300203）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种二维谱图对齐方法及系统”，专利申请号为CN202410317002.7，授权日为2024年6月14日。

专利摘要：本说明书实施例公开了一种二维谱图对齐方法及系统。其中，二维谱图对齐方法包括获取参考谱图数据以及待对齐谱图数据；对参考谱图数据及待对齐谱图数据分别进行折叠扩充处理，得到折叠扩充处理后的参考矩阵和待对齐矩阵；基于预设移动窗口，对折叠扩充处理后的参考矩阵和待对齐矩阵进行傅里叶交叉计算处理，得到傅里叶交叉计算处理后的相似性指数矩阵；根据相似性指数矩阵确定待对齐矩阵中各个点对应的偏移量及移动方向；根据待对齐矩阵中各个点对应的偏移量及移动方向对待对齐矩阵中各个点进行数据移动，得到数据移动后的对齐色谱数据。本说明书实施例能够实现多谱图数据全自动对齐的同时，提升了谱图对齐的速度和准确性。

今年以来聚光科技新获得专利授权14个，与去年同期持平。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了5.56亿元，同比减1.85%。

数据来源：企查查

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