光莆股份获得实用新型专利授权：“一种基于高分子薄膜的金属结构”

证券之星消息，根据企查查数据显示光莆股份（300632）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种基于高分子薄膜的金属结构”，专利申请号为CN202322632848.3，授权日为2024年6月11日。

专利摘要：本实用新型提供了一种基于高分子薄膜的金属结构，包括由高分子材料构成的薄膜基材、以及形成在所述薄膜基材上的第一金属层和第二金属层；所述薄膜基材的表面配置成具有一定的粗糙度并经过活化处理的面结构，所述第一金属层粘附在所述薄膜基材的表面并构造为具有纳米结构，所述第二金属层完全覆盖在所述第一金属层上、和/或在所述第一金属层上构造为具有图案化结构；从而，能够取代新能源负极的铜箔集流体，其金属结构的高分子密度远低于铜，减少负电极的铜的使用量，可显著提高单位重量的电池容量，并且各金属层的图案化处理采用飞秒激光或UV脉冲光进行曝光显影，可明显的简化制程，同时避免了蚀刻药液对金属的损伤。

今年以来光莆股份新获得专利授权13个，较去年同期增加了8.33%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了6251.84万元，同比增9.05%。

数据来源：企查查

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