上海新阳获得发明专利授权：“抗反射涂层清洗及刻蚀后残留物去除组合物、制备方法及用途”

证券之星消息，根据企查查数据显示上海新阳（300236）新获得一项发明专利授权，专利名为“抗反射涂层清洗及刻蚀后残留物去除组合物、制备方法及用途”，专利申请号为CN202010210656.1，授权日为2024年6月7日。

专利摘要：本发明公开了一种抗反射涂层清洗及刻蚀后残留物去除组合物、制备方法及用途。该组合物，其由下述原料制得，所述的原料包括以下质量分数的组分：0.1％?4％的氟化物、0.5％?6％的季铵碱、0.005％?3％的螯合剂、0.005％?3％的缓蚀剂、10％?30％的有机胺、0.005％?3％的表面活性剂、0.005％?2％的钝化剂、5％?50％的有机溶剂和余量的水；其中，所述的表面活性剂为EO?PO聚合物L31，所述的钝化剂为1?(苯并三氮唑?1?甲基)?1?(2?甲基苯并咪唑)。本发明的组合物对对多种金属材料、介电材料及SARC材料缓蚀性强，清洗效果佳。

今年以来上海新阳新获得专利授权31个，较去年同期增加了55%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了1.49亿元，同比增20.05%。

数据来源：企查查

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