四方光电获得实用新型专利授权：“一种导流结构及进气通道装置”

证券之星消息，根据企查查数据显示四方光电（688665）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种导流结构及进气通道装置”，专利申请号为CN202322452663.4，授权日为2024年5月28日。

专利摘要：本申请提供了一种导流结构及进气通道装置，该导流结构包括底座和固定在底座上的多个间隔设置的导流板；每个导流板包括依次相互连接的第一部分、第二部分和第三部分；第一部分呈矩形板，第一部分的相对两侧边用于固定在进气管道的内壁上；第二部分的周边呈圆弧形，第二部分的周边用于固定在圆筒状导气管的内壁上；第三部分呈矩形板，第三部分的相对两侧边用于固定在圆筒状导气管的内壁上；第一部分、第二部分共平面，第二部分和第三部分呈垂直设置，多个导流板将进气管道的进气口等面积均分且多个导流板将圆筒状导气管的出气口等面积均分。本申请结构能够适用于圆筒式燃烧器，每个导流腔体内压损相当且气体流量相同，有利于提高燃烧效果。

今年以来四方光电新获得专利授权11个，较去年同期增加了83.33%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了8224.14万元，同比增46.07%。

数据来源：企查查

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