甬矽电子获得实用新型专利授权：“真空吸附装置”

证券之星消息，根据企查查数据显示甬矽电子（688362）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“真空吸附装置”，专利申请号为CN202322766293.1，授权日为2024年5月28日。

专利摘要：本实用新型提供了一种真空吸附装置，涉及真空吸附技术领域，该真空吸附装置包括真空平台治具和机台底座，真空平台治具的正面设置有多个贯通设置的真空吸附孔，且真空平台治具的背面贴设在机台底座上，机台底座上设置有多个第一真空孔，多个第一真空孔与多个真空吸附孔一一对应设置，真空平台治具的背面还设置有吸附凹槽，机台底座上设置有多个第二真空孔，多个第二真空孔与吸附凹槽对应连通。相较于现有技术，本实用新型利用吸附凹槽和第二真空孔实现对真空平台治具的吸附固定，固定效果更好，且固定位置更加精确，避免了贴装过程中真空平台发生晃动，进而避免了贴装偏移等问题，提升贴装精度，保证贴装质量。

今年以来甬矽电子新获得专利授权20个，较去年同期增加了33.33%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了1.45亿元，同比增19.23%。

数据来源：企查查

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