国风新材获得发明专利授权：“一种含酰胺结构和三氟甲基的二酐单体、聚酰亚胺薄膜及其制备方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示国风新材（000859）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种含酰胺结构和三氟甲基的二酐单体、聚酰亚胺薄膜及其制备方法”，专利申请号为CN202211457487.7，授权日为2024年5月17日。

专利摘要：本发明公开了一种含酰胺结构和三氟甲基的二酐单体，其结构式如式(1)所示。本发明还公开了一种低介电常数聚酰亚胺薄膜及其制备方法，该聚酰亚胺薄膜是由聚酰胺酸溶液经过亚胺化得到，其中聚酰胺酸溶液原料中的二酐单体包括上述含酰胺结构和三氟甲基的二酐单体。本发明的二酐单体应用于制备聚酰亚胺薄膜，不仅可以降低集成电路中的层间电介质在高频下(10GHz)的能量功耗损耗，从而可以大大减少集成电路中的电阻?电容(RC)延时、串扰和功耗，同时还具有优良的力学性能和热稳定性，以及操作过程中的性能稳定性。

今年以来国风新材新获得专利授权21个，较去年同期增加了75%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了9294.63万元，同比增5.76%。

数据来源：企查查

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