中微公司获得发明专利授权：“气体遮挡环、等离子体处理装置及调控聚合物分布的方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“气体遮挡环、等离子体处理装置及调控聚合物分布的方法”，专利申请号为CN202010512729.2，授权日为2024年5月14日。

专利摘要：本发明公开了一种气体遮挡环、等离子体处理装置及调控聚合物分布的方法，所述设备包括：真空反应腔，真空反应腔内设置用于承载基片的基座。气体注入装置，用于向真空反应腔内输送反应气体。等离子体约束环，环绕设置在基座外围，等离子体约束环上设有排气通道，包括靠近基座的内圈排气区域和靠近真空反应腔侧壁的外圈排气区域，用于将真空反应腔内的反应气体排出。气体遮挡环，位于等离子体约束环的内圈排气区域上方，用于引导反应气体向等离子体约束环的外圈排气区域流动。本发明可以用于平衡腔体中心和边缘产生的聚合物的差异，从而降低刻蚀样品的整体形貌和绝对直径差异。

今年以来中微公司新获得专利授权66个，较去年同期增加了4.76%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了8.17亿元，同比增34.91%。

数据来源：企查查

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