证券之星消息,根据企查查数据显示捷佳伟创(300724)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“真空镀膜装置”,专利申请号为CN202322317831.9,授权日为2024年5月10日。
专利摘要:本实用新型公开了一种真空镀膜装置,真空镀膜装置包括镀膜腔体、泵体以及挡尘组件。镀膜腔体具有镀膜腔。泵体用以对镀膜腔抽真空。挡尘组件包括冷却部,冷却部设于镀膜腔与泵体之间的气流通道。其中,冷却部配置成能够对流入泵体的空气进行降温。本实用新型的真空镀膜装置能够有效抑制靶材粉尘进入泵体,降低开腔维护频次,保障生产的持续正常运转。
今年以来捷佳伟创新获得专利授权30个,较去年同期增加了76.47%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了4.67亿元,同比增63.46%。
数据来源:企查查
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