证券之星消息,根据企查查数据显示TCL科技(000100)新获得一项发明专利授权,专利名为“量子点薄膜及其制备方法和量子点发光二极管及其制备方法”,专利申请号为CN202010709907.0,授权日为2024年4月30日。
专利摘要:本发明属于显示器件技术领域,具体涉及一种量子点薄膜及其制备方法和量子点发光二极管及其制备方法。该量子点薄膜的制备方法包括如下步骤:提供基板;将含有量子点和高分子聚合物的混合溶液沉积在所述基板上,然后进行退火处理,得到量子点薄膜;其中,所述退火处理的温度≥所述高分子聚合物的玻璃化转变温度。该制备方法可以使量子点薄膜中的量子点位置重排,在高分子聚合物中堆积紧密、排布规整,形成平整的量子点薄膜,这样的制备方法得到的量子点薄膜用于量子点发光器件可以显著提高器件的电光效率和寿命。
今年以来TCL科技新获得专利授权41个,较去年同期减少了10.87%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了95.23亿元,同比增10.3%。
数据来源:企查查
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