至纯科技获得外观设计专利授权：“半导体晶圆单片式清洗机的清洗设置图形用户界面”

证券之星消息，根据企查查数据显示至纯科技（603690）新获得一项外观设计专利授权，专利名为“半导体晶圆单片式清洗机的清洗设置图形用户界面”，专利申请号为CN202330015998.2，授权日为2024年4月30日。

专利摘要：1.本外观设计产品的名称：半导体晶圆单片式清洗机的清洗设置图形用户界面。2.本外观设计产品的用途：用于半导体晶圆单片式清洗机运行程序。3.本外观设计产品的设计要点：在于产品屏幕中的图形用户界面的内容。4.最能表明设计要点的图片或照片：主视图。5.后视图、俯视图、仰视图、左视图和右视图无设计要点，省略后视图、俯视图、仰视图、左视图和右视图。6.图形用户界面的用途：界面变化状态图为点击主视图左下角“Maintain”按钮后再次点击“From To”的状态显示界面。

今年以来至纯科技新获得专利授权9个，较去年同期减少了47.06%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了2.24亿元，同比增16.35%。

数据来源：企查查

以上内容由证券之星根据公开信息整理，由算法生成（网信算备310104345710301240019号），与本站立场无关，如数据存在问题请联系我们。本文为数据整理，不对您构成任何投资建议，投资有风险，请谨慎决策。