证券之星消息,根据企查查数据显示京东方A(000725)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种阵列基板及显示装置”,专利申请号为CN202010803661.3,授权日为2024年4月16日。
专利摘要:本公开公开了一种阵列基板及显示装置,包括:衬底基板,包括多个子像素;多个子像素中的至少一个子像素包括:有源层,栅绝缘层,栅极,层间绝缘层,源漏极层,第一平坦层,阳极,其中,阳极包括:反射层,位于第一平坦层背离衬底基板一侧,且反射层包括间隔设置的多个反射部;第二平坦层,位于反射层背离衬底基板一侧,且第二平坦层覆盖反射层和衬底基板;第一透明电极层,位于第二平坦层背离衬底基板一侧,且第一透明电极层包括间隔设置的多个第一电极;其中,同一子像素中,第一电极在衬底基板的正投影与反射部在衬底基板的正投影至少存在交叠区域。
今年以来京东方A新获得专利授权1219个,较去年同期增加了54.5%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了113.2亿元,同比增1.97%。
数据来源:企查查
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