芯联集成获得实用新型专利授权：“保护环及等离子体处理设备”

证券之星消息，根据企查查数据显示芯联集成（688469）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“保护环及等离子体处理设备”，专利申请号为CN202322571342.6，授权日为2024年4月16日。

专利摘要：本实用新型涉及一种保护环及等离子体处理设备，等离子体处理设备包括处理腔室，设于处理腔室内且固定晶圆的吸盘，以及保护环，保护环的内径小于吸盘的直径，以使保护环的中空环状主体环绕吸盘设置，保护环的内径小于晶圆的直径，以使中空环状主体在晶圆的底部保护吸盘，中空环状主体具有相对的上表面和下表面，上表面包括平面和位于平面的外周侧且向下表面方向倾斜的斜面，保护环还包括多个定位凸台，多个定位凸台设于上表面上，并沿中空环状主体的周向间隔设置，多个定位凸台用于在晶圆的侧面限位晶圆。本实用新型可减少反应副产物在保护环和吸盘之间的堆积，进而提高设备运行效率，提高产品良率，并减少清洁频率，降低成本。

今年以来芯联集成新获得专利授权21个，较去年同期增加了5%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了15.29亿元，同比增82.25%。

数据来源：企查查

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