国星光电获得发明专利授权：“一种发光器件及其加工方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示国星光电（002449）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种发光器件及其加工方法”，专利申请号为CN202111677526.X，授权日为2024年4月9日。

专利摘要：本发明提供了一种发光器件及其加工方法，该器件包括子电路板、芯片组、子封装层、子侧防硫化膜、子挡墙和子顶防硫化膜；芯片组包括若干个芯片，若干个芯片分别键合在子电路板上并基于子封装层封装；子封装层的底面轮廓位于子电路板的边缘轮廓的包围区域内；子侧防硫化膜覆盖在子封装层的外侧面，且子侧防硫化膜自子封装层的外侧面底部朝子电路板的边缘延伸并覆盖在子电路板的顶面上；子挡墙包围在子侧防硫化膜的外侧面上；子顶防硫化膜覆盖在子封装层的顶面、子侧防硫化膜的顶面和子挡墙的顶面上。该发光器件通过特殊的加工工艺得到具有特定结构防硫化层的器件，通过防硫化层的设置可很好的避免器件的粘连问题和硫化问题。

今年以来国星光电新获得专利授权14个，较去年同期增加了7.69%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了8006.88万元，同比减4.28%。

数据来源：企查查

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