联合光电获得发明专利授权：“一种超大投射范围投影光学系统”

证券之星消息，根据企查查数据显示联合光电（300691）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种超大投射范围投影光学系统”，专利申请号为CN201810467887.3，授权日为2024年4月9日。

专利摘要：本发明公开了一种超大投射范围投影光学系统，包括DMD芯片和反射镜，所述DMD芯片和反射镜之间设置有相对DMD芯片静止的第一透镜组，第一透镜组的光焦度为负，所述DMD芯片和第一透镜组之间设置有能够在DMD芯片第一透镜组之间移动的第二透镜组，第二透镜组的光焦度为正，所述DMD芯片和第二透镜组之间设置有能够在DMD芯片和第二透镜组之间移动的第三透镜组，第三透镜组的光焦度为负，所述DMD芯片和第三透镜组之间设置有相对DMD芯片静止的第四透镜组，第四透镜组的光焦度为正。本发明具有高分辨率、高清晰度、投射范围大、投射比小于0.2等优点，可批量生产。

今年以来联合光电新获得专利授权15个，较去年同期增加了150%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了7729.41万元，同比增4.75%。

数据来源：企查查

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