中微公司获得发明专利授权：“电容式薄膜真空计、等离子体反应装置和膜层制备方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“电容式薄膜真空计、等离子体反应装置和膜层制备方法”，专利申请号为CN202010740454.8，授权日为2024年4月5日。

专利摘要：本发明涉及半导体加工技术领域，具体公开了一种电容式薄膜真空计，包括壳体和极板，壳体具有端口，壳体内部的空腔设置一膜片，膜片包括与端口相对的第一表面和与极板相对的第二表面，第一表面具有致密的膜层，膜层含氟元素。本发明通过在真空计中的膜片上增加一层致密膜层，阻挡反应腔内的氟自由基渗透到膜片中，避免膜片发生性能改变，从而避免由于膜片性能改变造成的零点漂移，保证了真空计的测量精度，解决了现有真空计中氟自由基渗透造成的零点漂移的问题。进一步地，提供了一种等离子体反应装置，这种装置压力便于控制和监控，以及膜层的制备方法，制备得到的膜层具有高致密的性质。

今年以来中微公司新获得专利授权50个，较去年同期减少了5.66%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了8.17亿元，同比增34.91%。

数据来源：企查查

以上内容由证券之星根据公开信息整理，由算法生成，与本站立场无关。证券之星力求但不保证该信息（包括但不限于文字、视频、音频、数据及图表）全部或者部分内容的的准确性、完整性、有效性、及时性等，如存在问题请联系我们。本文为数据整理，不对您构成任何投资建议，投资有风险，请谨慎决策。