证券之星消息,根据企查查数据显示武汉凡谷(002194)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种容性耦合装置及滤波器”,专利申请号为CN201811036762.1,授权日为2024年4月5日。
专利摘要:本发明公开了一种容性耦合装置及滤波器。它包括多个实心的介质单体,相邻的介质单体之间拼接连接,至少一个相邻介质单体的拼接面上设置有容性耦合结构,所述容性耦合结构包括第一盲孔和表面未金属化的第一空气耦合窗口,所述第一盲孔的深度大于等于所述第一空气耦合窗口深度的1/2且小于第一空气耦合窗口深度,所述第一盲孔的内壁上设置有金属屏蔽层,所述第一空气耦合窗口设置于第一盲孔的两侧及底部。本发明多个介质单体之间拼接连接,在拼接面上设置盲孔及空气耦合窗口实现两腔之间的耦合,该结构用于滤波器中,可以在滤波器的通带低端形成传输零点,增加了滤波器的矩形系数,从而提高滤波器性能,降低滤波器的体积。
今年以来武汉凡谷新获得专利授权12个,较去年同期增加了200%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了1.33亿元,同比增6.96%。
数据来源:企查查
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