证券之星消息,根据企查查数据显示四方达(300179)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种高耐磨聚晶金刚石复合片”,专利申请号为CN201910398399.6,授权日为2024年4月2日。
专利摘要:本发明公开一种高耐磨性的聚晶金刚石复合片。该复合片包括两层,即工作层为聚晶金刚石,支撑层为硬质合金;所述聚晶金刚石层包括沿垂直和径向分布的三层结构,垂直分布结构的第一层毗邻界面,是高温高压烧结的原始层,第二层中间层是脱钴层,第三层最顶层是脱钴和脱钨层;径向结构的三层是从最中心向外分布,金属含量与垂直分布相同。本发明可以大幅度提高聚晶金刚石复合片的耐磨性,同时对抗冲击性和热稳定性也有所改善,从而延长复合片的使用寿命。
今年以来四方达新获得专利授权17个,较去年同期增加了21.43%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了6296.03万元,同比减1.93%。
数据来源:企查查
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