华映科技获得实用新型专利授权：“一种无需掺杂的顶栅金属氧化物阵列基板”

证券之星消息，根据企查查数据显示华映科技（000536）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种无需掺杂的顶栅金属氧化物阵列基板”，专利申请号为CN202322117583.3，授权日为2024年4月2日。

专利摘要：本实用新型提供一种无需掺杂的顶栅金属氧化物阵列基板，其从下到上依次包括玻璃基板、第一金属层、第一绝缘层、中间导电接触层、半导体层、栅极绝缘层、第二金属层、第一中间绝缘层、第三金属层、有机平坦层、第一透明导电层、第二中间绝缘层和第二透明导电层，第二透明导电层包括像素电极，像素电极通过第二中间绝缘层的第三通孔与漏极相连接；半导体层的两端分别与中间导电接触层的第一接触层和第二接触层的一端相搭接；第三金属层的源极和漏极分别通过第一中间绝缘层的第一通孔与第一接触层和第二接触层相连接。本实用新型通过结构优化，无需额外光罩或者离子注入设备即可减少器件半导体层与源漏极接触区接触阻抗，提高器件性能及稳定性。

今年以来华映科技新获得专利授权17个，较去年同期增加了6.25%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了9516.39万元，同比减20.46%。

数据来源：企查查

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