亚玛顿获得实用新型专利授权：“一种隐藏式超短距均匀成像的结构”

证券之星消息，根据企查查数据显示亚玛顿（002623）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种隐藏式超短距均匀成像的结构”，专利申请号为CN202321684513.X，授权日为2024年3月29日。

专利摘要：本实用新型属于投影设备的技术领域，具体涉及一种隐藏式超短距均匀成像的结构，这种隐藏式超短距均匀成像的结构包括：匚形投影架、设于匚形投影架内的幕布和设于匚形投影架上的凸透镜，所述幕布设于匚形投影架内部中间位置，所述匚形投影架位于凸透镜靠近所述幕布一侧开设有影像投射孔，所述凸透镜远离所述影像投射孔的一侧设置有投影设备，所述凸透镜将影像通过所述影像投射孔透射至所述幕布。这种隐藏式超短距均匀成像的结构具有投影设备及透镜不正对幕布的摆放方式，可实现隐藏式成像的效果。

今年以来亚玛顿新获得专利授权24个，较去年同期增加了700%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了4468.92万元，同比增26.88%。

数据来源：企查查

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