证券之星消息,根据企查查数据显示四方达(300179)新获得一项发明专利授权,专利名为“聚晶金刚石复合片的脱钴/脱钨方法”,专利申请号为CN202210604230.3,授权日为2024年3月26日。
专利摘要:本发明涉及聚晶金刚石复合片的脱钴/脱钨,特别涉及聚晶金刚石复合片的脱钴/脱钨方法。聚晶金刚石复合片的脱钴/脱钨方法包括以下步骤:步骤一,设置密封壳体,使密封壳体与聚晶金刚石复合片的外周面形成密封,并且在聚晶金刚石复合片的聚晶金刚石层的待脱钴/脱钨部位上方形成空腔,使待脱钴/脱钨部位暴露于所述空腔中;步骤二,在所述空腔中注入脱钴/脱钨液,使聚晶金刚石层的待脱钴/脱钨部位浸没在脱钴/脱钨液中以实现脱钴/脱钨。上述方案能够解决现有的脱钴/脱钨方法脱钴/脱钨液用量大、成本高、可能造成的环境污染问题大的问题。
今年以来四方达新获得专利授权15个,较去年同期增加了15.38%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了6296.03万元,同比减1.93%。
数据来源:企查查
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