证券之星消息,根据企查查数据显示捷佳伟创(300724)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“反应炉及具有该反应炉的镀膜设备”,专利申请号为CN202321447275.0,授权日为2024年3月26日。
专利摘要:本实用新型公开了一种反应炉及具有该反应炉的镀膜设备,反应炉,包括:炉单元,包括炉体、以及设置于炉体的端部的端盖,端盖设有装配孔;管单元,包括管件、SiC护套以及绝缘密封组件,管件穿设于炉体的内部、并穿设于装配孔且从炉体的内部伸出,SiC护套套设于管件外,且SiC护套穿设于炉体的内部、并穿设于装配孔且从炉体的内部伸出,SiC护套与炉单元相间隔,绝缘密封组件套接在SiC护套外、并位于炉体的外部,且绝缘密封组件与端盖连接、并密封装配孔。SiC护套的材质为SiC,在常温下,SiC的热导率约为120W/(m·K),导热更容易,更快;并且,SiC材质硬度强,承受能力强,在高温冷却的情况下,不易发生形变,不易碎,使用时间长,可靠性高。
今年以来捷佳伟创新获得专利授权14个,较去年同期增加了40%。结合公司2023年中报财务数据,2023上半年公司在研发方面投入了2.16亿元,同比增51.82%。
数据来源:企查查
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