芯源微获得发明专利授权：“一种晶圆背面清洗装置、方法及清洗单元”

证券之星消息，根据企查查数据显示芯源微（688037）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种晶圆背面清洗装置、方法及清洗单元”，专利申请号为CN202010976016.1，授权日为2024年3月15日。

专利摘要：本发明提供了一种晶圆背面清洗装置、方法及清洗单元，所述清洗装置包括中心清洗部、边缘清洗部和运载部，晶圆背面包括相邻的中心圆形区和边缘圆环区，晶圆通过所述中心清洗部完成中心清洗后通过所述运载部移动至所述边缘清洗部上方进行边缘清洗，中心清洗部包括清洗臂，清洗臂上安装有中心清洗头，中心清洗头设置在所述中心圆形区正下方并进行中心清洗，边缘清洗部包括边缘清洗头，边缘清洗头安装在水平摆臂的一端上，水平摆臂的另一端连接有竖直摆臂，边缘清洗头位于所述晶圆的边缘圆环区正下方并进行边缘清洗，本发明能够在不翻转晶圆的情况下对晶圆背面进行高效清洗，提高了清洗效率，而且结构简单，占地空间小。

今年以来芯源微新获得专利授权8个，较去年同期增加了14.29%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了7697.75万元，同比增80.33%。

数据来源：企查查

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