证券之星消息,根据企查查数据显示奥比中光(688322)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种基于深度相机的人脸误检优化方法、系统及人脸检测设备”,专利申请号为CN202011336341.8,授权日为2024年3月15日。
专利摘要:本发明公开了一种基于深度相机的人脸误检优化方法、系统及人脸检测设备,包括:S1、获取目标区域的彩色图像和深度图像;S2、对彩色图像进行人脸区域检测,得到初始人脸框和人脸关键点;S3、将初始人脸框与彩色图像结合并进行裁剪得到人脸图像,进行图像分类,得到第一人脸区域图像;S4、检测人脸关键点在深度图像上的深度值,获得第二人脸区域图像;S5、根据人脸关键点的位置信息,求取人脸的旋转角度并将人脸进行重投影,以对第二人脸区域图像进行筛选,剔除大角度偏向人脸以确认最终人脸区域。本发明提高了人脸关键点定位的准确率,且减少了每个关键特征点单独判断带来的误差累积,从而有效降低了人脸检测的误检率。
今年以来奥比中光新获得专利授权25个,较去年同期增加了13.64%。结合公司2023年中报财务数据,2023上半年公司在研发方面投入了1.68亿元,同比减13.04%。
数据来源:企查查
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