双星新材获得发明专利授权：“一种薄膜电晕处理表面的检测方法及系统”

证券之星消息，根据企查查数据显示双星新材（002585）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种薄膜电晕处理表面的检测方法及系统”，专利申请号为CN202111010396.4，授权日为2024年3月12日。

专利摘要：本申请公开了一种薄膜电晕处理表面的检测方法，至少包括如下步骤：首先向薄膜的电晕处理表面释放粉末，然后根据附着在薄膜的电晕处理表面上的粉末分布图像，判断薄膜的电晕处理表面的均匀性。另外，本申请还公开了一种薄膜电晕处理表面的检测系统，至少包括一个向薄膜的电晕处理表面释放粉末的粉末释放装置以及设置在粉末释放装置的下方的下料筐。本申请通过向薄膜表面释放粉末，可以在整个薄膜表面形成宏观的粉末分布图像，可以直观反应整体残留静电场，进而可以判断薄膜的电晕处理表面是否均匀。本申请的方案简单易行便于操作，可以在极短时间内判断大面积的薄膜电晕处理表面的微观结构是否均匀。

今年以来双星新材新获得专利授权6个，较去年同期减少了75%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了1.12亿元，同比减10.22%。

数据来源：企查查

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