阿特斯获得发明专利授权：“一种硅片、硅片绒面结构及其制备方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示阿特斯（688472）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种硅片、硅片绒面结构及其制备方法”，专利申请号为CN202011567032.1，授权日为2024年3月12日。

专利摘要：本发明提供了一种硅片、硅片绒面结构及其制备方法，所述制备方法包括如下步骤：(1)碱液中对硅片进行各向异性碱制绒处理，烘干后得到第一硅片；(2)在步骤(1)所得第一硅片的电极设置区域丝网印刷纳米金属颗粒浆料，烘干后得到第二硅片；(3)对步骤(2)所得第二硅片依次进行酸蚀处理与酸洗处理，烘干后完成硅片绒面结构的制备。本发明利用丝网印刷在电极设置区域设置纳米金属颗粒，然后通过酸蚀处理得到纳米级孔洞绒面，便于在电极设置区域实现高浓度掺杂并在非电极设置区域实现低浓度掺杂；而且，通过使丝网印刷所用网版与设置电极栅线所用网版相同，使电极与高浓度掺杂区域准确对应，保证了电池的填充因子。

今年以来阿特斯新获得专利授权20个，较去年同期减少了31.03%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了2.79亿元，同比增39.27%。

数据来源：企查查

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