长光华芯获得发明专利授权：“一种多结垂直腔面发光结构及其制备方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示长光华芯（688048）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种多结垂直腔面发光结构及其制备方法”，专利申请号为CN202311734263.0，授权日为2024年3月1日。

专利摘要：本发明提供一种多结垂直腔面发光结构及其制备方法，多结垂直腔面发光结构包括：阶梯型发光柱；阶梯型发光柱包括：第一有源层至第N有源层；第一隧道结至第隧道结；第一电流限制层至第N电流限制层；阶梯型发光柱包括第一区至第Q区，第一区至第Q区在半导体衬底层表面的正投影图形的尺寸递减；任意的第q区中具有第一电流限制层至第N电流限制层中的至少一个电流限制层；第一电流限制层至第N电流限制层中的每个电流限制层均包括出光区和环绕出光区的氧化区；第一区中电流限制层的出光区的宽度至第Q区中电流限制层的出光区的宽度递减。大孔径的前提下实现高输出功率、小远场发散角，同时避免增加额外的复杂工艺。

今年以来长光华芯新获得专利授权5个，较去年同期增加了25%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了5477.17万元，同比增1.26%。

数据来源：企查查

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