津膜科技获得发明专利授权：“补漏剂及用于修补分离膜的方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示津膜科技（300334）新获得一项发明专利授权，专利名为“补漏剂及用于修补分离膜的方法”，专利申请号为CN202110470436.7，授权日为2024年2月27日。

专利摘要：本发明属于膜修复领域，具体涉及一种补漏剂及用于修补分离膜的方法，补漏剂包括下述质量份组分：高聚物10?30份，溶剂10?30份，惰性载体剂40?80份；所述的高聚物为待修复的分离膜主体材料；所述的惰性载体剂为不能单独溶解分离膜且与分离膜/溶剂体系共混的有机溶剂；所述的溶剂为能够溶解所述的高聚物的溶剂。本发明的补漏剂制备简易，耐存储，使用方便。能快速填补漏洞，恢复破损区孔径，延续膜使用寿命。对正常功能区孔径过滤截留性能无影响，膜组件性能影响小。操作方便，可集成化使用。

今年以来津膜科技新获得专利授权2个。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了1583.08万元，同比增54.05%。

数据来源：企查查

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