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斯迪克获得实用新型专利授权:“高耐磨抗反射光学膜”

来源:证券之星企业动态 2024-02-27 02:33:16
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证券之星消息,根据企查查数据显示斯迪克(300806)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“高耐磨抗反射光学膜”,专利申请号为CN202321664788.7,授权日为2024年2月27日。

专利摘要:本实用新型公开了一种高耐磨抗反射光学膜,包括依次层叠设置的基材层、硬化涂层、高折射率涂层和低折射率涂层。所述高折射率涂层的折射率为1.64?1.70,水滴角<80°,达因值≥34。所述低折射率涂层的折射率为1.40?1.44,表面动摩擦系数<0.18。本实用新型提供的高耐磨抗反射光学膜具备较好的抗反射性能和优异的耐磨性能,能够满足折叠手机屏幕保护膜的需求,具有很好的应用前景。

今年以来斯迪克新获得专利授权3个。结合公司2023年中报财务数据,2023上半年公司在研发方面投入了6861万元,同比增33.78%。

数据来源:企查查

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