时创能源获得发明专利授权：“一种单晶硅片背抛光用添加剂及其应用”

证券之星消息，根据企查查数据显示时创能源（688429）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种单晶硅片背抛光用添加剂及其应用”，专利申请号为CN202210238348.9，授权日为2024年2月13日。

专利摘要：本发明公开了一种单晶硅片背抛光用添加剂，其各组分的质量百分含量为：聚丙烯酰胺0.1%～0.5%，聚乙二醇0.05%～0.1%，聚乙烯亚胺0.1%～0.5%，羟乙基淀粉0.1%～0.5%，苯甲酸钠0.1%～0.3%，余量为去离子水。在单晶硅片背抛光的碱抛光液中添加本发明的添加剂，可在抛光过程中保护硅片正面PN结不被破坏，还能控制抛光后硅片背面的平整度和反射率。本发明抛光得到具有相对粗糙的小尺寸绒面的背面，利于背面浆料接触，避免或大大减少印刷时出现断栅的现象，提高电池转换效率。

今年以来时创能源新获得专利授权15个，较去年同期增加了114.29%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了7276.55万元，同比增35.5%。

数据来源：企查查

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