捷佳伟创获得实用新型专利授权：“上料装置以及真空镀膜设备”

证券之星消息，根据企查查数据显示捷佳伟创（300724）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“上料装置以及真空镀膜设备”，专利申请号为CN202321760889.4，授权日为2024年2月9日。

专利摘要：本实用新型公开了一种上料装置以及真空镀膜设备，其中上料装置包括：顶杆以及驱动机构。顶杆包括推杆以及支撑件，推杆与支撑件为分体式结构，支撑件连接于推杆，用于承载靶材，推杆由耐高温高强度的材料制成，支撑件为耐高温绝缘结构，驱动机构连接于推杆，用于驱动顶杆移动，以输送靶材。由于支撑件为耐高温绝缘材料制成，使得顶杆能够与靶材绝缘。由于推杆由耐高温高强度材料制成，使得推杆在安装过程中安装不易损坏。因此，顶杆中的支撑件与推杆根据不同的使用要求选用不同的材料制成，而无需采用同种材料加工形成一体式结构。以使顶杆在满足耐高温，以及与靶材绝缘的前提下，安装方便不易损坏，从而降低上料装置的制造成本以及维护成本。

今年以来捷佳伟创新获得专利授权11个。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了2.16亿元，同比增51.82%。

数据来源：企查查

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