新洁能获得发明专利授权：“一种多次外延的超结终端结构及其制作方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示新洁能（605111）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种多次外延的超结终端结构及其制作方法”，专利申请号为CN201811475562.6，授权日为2024年2月9日。

专利摘要：本发明属于半导体器件的制造技术领域，涉及一种多次外延的超结终端结构，包括第一导电类型外延层，在终端区内，第一导电类型外延层内设有若干个规则排布呈环形的第二导电类型圆形区，且相邻第二导电类型圆形区可邻接或分离，在相邻的第二导电类型圆形区间设有第一导电类型区；在终端区靠近有源区表面设置若干个第二导电类型阱区；本发明通过在终端区外延层内设置第二导电类型圆形区（或椭圆），且第二导电类型圆形区相邻接或分离，且在靠近有源区的表面设置若干个用于防止击穿的第二导电类型圆形区，使得器件在横向耐压时的耐压效率更高，耗尽更完全，进而可减小终端面积，使得整个芯片面积减小，降低生产成本，提高芯片的性价比。

今年以来新洁能新获得专利授权2个。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了4691.76万元，同比增22.4%。

数据来源：企查查

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