证券之星消息,根据企查查数据显示国风新材(000859)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种低介电聚酰亚胺薄膜及其制备方法”,专利申请号为CN202111364531.5,授权日为2024年2月6日。
专利摘要:本发明公开了一种低介电聚酰亚胺薄膜的制备方法,包括:将PEG/聚酰胺酸混合溶液流延成膜,得到自支撑膜,然后将所述自支撑膜经过热亚胺化和双向拉伸,即得。本发明制得的聚酰亚胺薄膜具有高强度、高耐折、高耐温性能,可以长期使用不被损坏,有利于保持信号的传输稳定性,节约成本。
今年以来国风新材新获得专利授权9个。结合公司2023年中报财务数据,2023上半年公司在研发方面投入了4204.6万元,同比增29.39%。
数据来源:企查查
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