证券之星消息,根据企查查数据显示上海新阳(300236)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种ArF光源干法光刻用多鎓盐型光产酸剂的应用”,专利申请号为CN202110979409.2,授权日为2024年2月2日。
专利摘要:本发明公开了一种ArF光源干法光刻用多鎓盐型光产酸剂的应用。该光产酸剂为具有阴离子和鎓离子的鎓盐,所述阴离子具有式(I)所示的结构,所述鎓离子具有式(A)或式(B)所示的结构,所述鎓离子的个数使所述鎓盐的电荷保持中性。包含本发明鎓盐的光刻胶具有更好的分辨率、灵敏度和线宽粗糙度。
今年以来上海新阳新获得专利授权10个,较去年同期增加了66.67%。结合公司2023年中报财务数据,2023上半年公司在研发方面投入了6400.07万元,同比增22.69%。
数据来源:企查查
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