中微公司获得发明专利授权：“半导体零部件、复合涂层形成方法和等离子体反应装置”

证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“半导体零部件、复合涂层形成方法和等离子体反应装置”，专利申请号为CN202010819097.4，授权日为2024年1月23日。

专利摘要：本发明涉及等离子体刻蚀的技术领域，公开了一种半导体零部件、复合涂层形成方法和等离子体反应装置，包括零部件本体，所述零部件本体表面具有复合涂层，所述复合涂层包括耐等离子体腐蚀涂层和防水牺牲层，所述耐等离子体腐蚀涂层设置于所述零部件本体表面；所述防水牺牲层设置于所述耐等离子体腐蚀涂层表面。在耐等离子体腐蚀涂层的表面涂覆一层防水牺牲层，避免耐等离子体腐蚀涂层与水接触，大大降低耐腐蚀涂层因水解失效的风险，可缩减清洗、运输、储存或投入使用的时间，大大提高等离子体刻蚀生产的效率，降低刻蚀成本。

今年以来中微公司新获得专利授权3个，较去年同期减少了62.5%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了2.92亿元，同比减3.77%。

数据来源：企查查

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