证券之星消息,根据企查查数据显示光库科技(300620)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种反射式的光隔离器”,专利申请号为CN202321965294.2,授权日为2024年1月23日。
专利摘要:本实用新型提供一种一种反射式的光隔离器,包括:沿输出光路方向依次布置的第一准直器、第一双折射晶体、第一分束立方体、法拉第旋光件、旋光1/2波片、第二分束立方体和反射膜,沿反射光路方向依次布置的第二准直器、第二双折射晶体和第一分束立方体,沿回光光路方向依次布置的第三准直器、第三双折射晶体和第二分束立方体,通过直接在第二分束立方体的末端端面镀上反射膜,继而降低调试难度,且反射式光路结构紧凑,且光学器件复用带来成本低的优势,另外通过在回光光路方向设置反向光的导出光路,反向光从第三准直器导出,提高器件反向光承受能力。
今年以来光库科技新获得专利授权1个。结合公司2023年中报财务数据,2023上半年公司在研发方面投入了6310.68万元,同比增39.73%。
数据来源:企查查
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