菲沃泰获得发明专利授权：“基于ICP的等离子体镀膜装置及其方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示菲沃泰（688371）新获得一项发明专利授权，专利名为“基于ICP的等离子体镀膜装置及其方法”，专利申请号为CN202110138201.8，授权日为2024年1月19日。

专利摘要：一种基于ICP的等离子体镀膜装置及其方法，用于在抽真空的条件下，利用化学单体气体对待镀膜工件进行镀膜。该基于ICP的等离子体镀膜装置包括：一镀膜腔室；一转架，其中该转架被可转动地设置于该镀膜腔室，用于放置该待镀膜工件；一给排气系统，其中该给排气系统与该镀膜腔室可导通地连接，用于在向外排气以在该镀膜腔室内形成真空度的同时，向内供气以向该镀膜腔室提供该化学单体气体；以及一或多个ICP激发系统，其中该一或多个ICP激发系统分别被对应地设置于该镀膜腔室的外侧，用于在该镀膜腔室内产生激发电磁场，以电离该化学单体气体而形成电感耦合等离子体，使得该电感耦合等离子体在该待镀膜工件的表面沉积以形成均匀的膜层。

今年以来菲沃泰新获得专利授权1个，较去年同期减少了66.67%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了4130.86万元，同比增73.21%。

数据来源：企查查

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