深天马Ａ获得发明专利授权：“半导体装置及其制造方法和显示设备及其制造方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示深天马Ａ（000050）新获得一项发明专利授权，专利名为“半导体装置及其制造方法和显示设备及其制造方法”，专利申请号为CN201710805363.6，授权日为2024年1月16日。

专利摘要：本发明涉及半导体装置及其制造方法和显示设备及其制造方法。一种半导体装置，包括：绝缘基板；多晶硅层，其形成在绝缘基板上；第一栅极绝缘层，其形成在多晶硅层上；第一金属层，其形成在第一栅极绝缘层上；氧化物半导体层，其形成在第一栅极绝缘层上；第二栅极绝缘层，其形成在氧化物半导体层上；第二金属层，其形成在第二栅极绝缘层上；第一顶栅平面型薄膜晶体管，其将多晶硅层用作沟道并包括源极、漏极及栅极；以及第二顶栅型薄膜晶体管，其将氧化物半导体层用作沟道并包括源极、漏极及栅极，其中，第一薄膜晶体管的源极和漏极以及第二薄膜晶体管的栅极由第二金属层构成，第一薄膜晶体管的源极或漏极和第二薄膜晶体管的栅极相互电连接。

今年以来深天马Ａ新获得专利授权1个，较去年同期减少了50%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了14.59亿元，同比减1.43%。

数据来源：企查查

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