晶盛机电获得发明专利授权：“抛光液供给系统及晶圆抛光机”

证券之星消息，根据企查查数据显示晶盛机电（300316）新获得一项发明专利授权，专利名为“抛光液供给系统及晶圆抛光机”，专利申请号为CN202311005660.4，授权日为2024年1月9日。

专利摘要：本发明涉及一种抛光液供给系统及晶圆抛光机，该抛光液供给系统应用于晶圆抛光机，该抛光液供给系统包括：中心轴，开设有进液流道；及第一转动件，转动连接于中心轴，开设有出液流道，出液流道用于连通供液通道；进液流道连通出液流道。因为进液流道、出液流道均位于抛光液供给系统内，所以抛光液在流动过程中始终不会暴露于外界。因此，外界的杂质无法通过抛光液进入晶圆抛光机流入上盘，这能够避免外界的杂质对晶圆的抛光过程造成负面影响而导致晶圆的抛光品质降低。而且，因为抛光液没有暴露于外界，所以抛光液不容易挥发，晶圆抛光机上由挥发的抛光液形成的结晶便会显著减少，这能够减轻晶圆抛光机的清洁负担。

今年以来晶盛机电新获得专利授权7个，较去年同期减少了12.5%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了6亿元，同比增118.68%。

数据来源：企查查

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