莱伯泰科获得实用新型专利授权：“用于半导体痕量元素开关盖进样分析的复合垂向臂结构”_股票频道

证券之星消息，根据企查查数据显示莱伯泰科（688056）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“用于半导体痕量元素开关盖进样分析的复合垂向臂结构”，专利申请号为CN202321726741.9，授权日为2024年1月9日。

专利摘要：本实用新型提供一种用于半导体痕量元素开关盖进样分析的复合垂向臂结构，具有电动升降组件、电动转动组件、开关盖组件以及取样组件，所述电动升降组件能够驱动所述电动转动组件进行升降动作，所述开关盖组件以及取样组件安装在所述电动转动组件上，并能够被所述电动转动组件驱动同步旋转。本实用新型通过将开关盖组件与取样组件整合到同一个复合垂向臂结构上，具有简单、高效、速度快的优点。

今年以来莱伯泰科新获得专利授权1个。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了2171.83万元，同比增27.16%。

数据来源：企查查

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