微导纳米获得发明专利授权：“一种反应设备、半导体镀膜设备及其镀膜方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示微导纳米（688147）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种反应设备、半导体镀膜设备及其镀膜方法”，专利申请号为CN202310689192.0，授权日为2023年12月29日。

专利摘要：本申请涉及一种反应设备、半导体镀膜设备及其镀膜方法。其中反应设备包括反应室、第一盖板、进气组件和匀流板。其中反应室内形成反应腔，用于承载待反应物，反应室包括相对设置的第一端和第二端。第一盖板盖设于第一端。进气组件设置于第一盖板，进气组件与反应腔连通。匀流板设置于第一盖板和反应室之间。第一盖板与匀流板的排列方向和待反应物的垂直轴线相互垂直，匀流板朝向第一盖板一侧壁面呈隆起设置，第一盖板朝向匀流板一侧壁面呈凹陷设置。该结构的设置使得反应源在进入反应室的过程中扩散更加均匀，以使得待反应物上的反应源的分布更均匀，进而待反应物之间的膜厚均匀性更好。

今年以来微导纳米新获得专利授权40个，较去年同期增加了150%。结合公司2023年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了6390.04万元，同比增3.34%。

数据来源：企查查

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