证券之星消息,根据企查查数据显示东尼电子(603595)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种磁控溅射机打氧化腔结构”,专利申请号为CN202321824944.1,授权日为2023年12月29日。
专利摘要:本实用新型提供了一种磁控溅射机打氧化腔结构,包括底柜,底柜顶部左侧固定连接有密封箱,密封箱左侧固定连接有排气管,排气管外侧固定套设有电控阀和真空泵,底柜顶部且位于密封箱右侧固定连接有氧化腔,氧化腔顶部设有密封盖二,氧化腔内部固定连接有若干个等距分布且呈相对称设置的靶座,靶座相对一侧均固定连接有金属氧化物靶材,本实用新型通过氧化腔、靶座、金属氧化物靶材和真空泵配合使用,从而解决现有技术沉积层上有局部是未能氧化的纯金属层的缺点,保证PET膜的达因值满足打底效果。
今年以来东尼电子新获得专利授权15个,与去年同期持平。结合公司2023年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了7182.25万元,同比增57.46%。
数据来源:企查查
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