中微公司获得发明专利授权：“半导体零部件、涂层形成方法和等离子体反应装置”

证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“半导体零部件、涂层形成方法和等离子体反应装置”，专利申请号为CN202011024611.1，授权日为2023年12月22日。

专利摘要：一种半导体零部件、形成涂层的方法和等离子体反应装置，其中，半导体零部件包括：零部件本体；第一耐腐蚀涂层，位于零部件本体表面，其内具有孔隙，其材料具有第一孔隙率；第二耐腐蚀涂层，位于第一耐腐蚀涂层上，其材料具有第二孔隙率，第二孔隙率小于第一孔隙率；导电导热材料，填充于第一耐腐蚀涂层的孔隙内。本发明提供的半导体零部件表面具有导热导电的耐腐蚀涂层，由于耐腐蚀涂层具有导热导电的通道，因此提高了耐腐蚀涂层的抗热冲击性能和残留电荷释放能力，降低了由于材料热膨胀系数不同产生的颗粒污染问题，以及残留电荷过多产生的电弧问题。

今年以来中微公司新获得专利授权149个，较去年同期增加了338.24%。结合公司2023年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了2.92亿元，同比减3.77%。

数据来源：企查查

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