天源环保新获得发明专利授权：“一种半导体废水处理方法及系统”

证券之星消息，根据企查查数据显示天源环保（301127）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种半导体废水处理方法及系统”，专利申请号为CN202310232291.6，授权日为2023年12月5日。

专利摘要：本发明公开了一种半导体废水处理方法及系统。该半导体废水处理方法包括：分类收集：将半导体废水分为酸性废水、碱性废水、含氟废水、含砷废水和有机废水进行收集；分质预处理：中和酸性废水和碱性废水，去除含砷废水中的三价砷和单质磷，去除含氟废水中的氟离子；MBR膜处理：将分质预处理后的酸性废水、碱性废水、含砷废水、含氟废水和有机废水进入MBR膜生物反应器，初步去除废水中的污染物；RO分离净化：将经MBR膜生物反应器处理后的废水进入RO分离净化器，去除废水中残余的杂质，得到干净的回收水。本发明先将各种废水进行分质预处理，实现各类污染物的分级去除，再依次经MBR膜处理、RO分离净化处理，产水回用率达90％。

今年以来天源环保新获得专利授权23个，较去年同期增加了21.05%。结合公司2023年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了2081.42万元，同比增43.64%。

数据来源：企查查

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