美迪凯新获得发明专利授权：“一种晶圆表面吸收式IR镀膜工艺”

证券之星消息，根据企查查数据显示美迪凯（688079）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种晶圆表面吸收式IR镀膜工艺”，专利申请号为CN202111053917.4，授权日为2023年12月1日。

专利摘要：本发明提出了一种晶圆表面吸收式IR镀膜工艺，通过本工艺得到的产品使得可见光区（400nm~700nm）呈高透，近红外区（780nm~1100nm）呈高度截止状态，在不同角度光入射时光透过偏移量小，有助于改进角度偏移难题，解决了传统镀膜制程产品容易出现的图像失真、识别速度慢等问题，比起传统镀膜工艺只能保证光在0°?20°入射时光干扰小的窄角来讲，本工艺路线具有更优越的实用价值；晶圆表面经过电路及光路层结构加工后表面存在高度差，对旋涂要求较高，本发明工艺可较好的去除凹槽中的油墨残留，且光路层表面油墨分布较均匀，膜厚散差控制在0.2μm左右。

今年以来美迪凯新获得专利授权8个，较去年同期增加了60%。结合公司2023年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了3510.55万元，同比增7.08%。

数据来源：企查查

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