利元亨新获得发明专利授权：“缺陷检测方法、装置及存储介质”

证券之星消息，根据企查查数据显示利元亨（688499）新获得一项发明专利授权，专利名为“缺陷检测方法、装置及存储介质”，专利申请号为CN202310745631.5，授权日为2023年11月14日。

专利摘要：本申请实施例提供了缺陷检测方法、装置及存储介质，属于图像检测技术领域。该方法包括：获取待处理图像，其中，待处理图像由对待测电芯进行图像采集得到；对待处理图像进行特征提取，确定待处理图像的特征区域；对特征区域进行图像差分计算，得到背景区域以及干扰区域；计算背景区域的平均灰度值，并根据平均灰度值对干扰区域进行处理，得到目标图像；对目标图像进行缺陷提取，确定目标缺陷信息。本申请实施例能够避免多余信息对电芯检测的干扰，提高缺陷检测的精度。

今年以来利元亨新获得专利授权416个，较去年同期减少了8.77%。结合公司2023年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了2.77亿元，同比增33.57%。

数据来源：企查查

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